随着NiSi耐司品牌的发展，不仅在国内，在国际上的影响力也越来越大。2013年10月24～26日，NiSi耐司滤镜携新品参加PDN（美国纽约摄影器材展），受到广泛关注。本次NiSi耐司携带全系列滤镜产品、以及新推出的方形镜系列产品和创新钢化屏幕保护贴膜系列产品，得到了专业人士及摄影爱好者的一致认可。
如今，使用单反的摄影爱好者越来越多，摄影爱好者对器材的选择越来越专业化。耐司一直致力于专业摄影滤镜的研发与生产， 此次参展的100方形滤镜系统便是耐司新发布的高端滤镜产品，从材质选择到功能设计都采用一流标准，以确保摄影师获得至臻画质。同时，NiSi耐司的产品获得了美国tiffen，LEE等知名品牌的认可和肯定。
耐司新推出的NiSi F-STOPPER PRO100方形滤镜系统，该系统包括NiSi耐司全新开发的方形滤镜支架、NiSi ND1000方形滤镜（100mm*100mm）、NiSi方形渐变滤镜（100mm*150mm）及NiSi方形偏光镜（100mm*100mm），该系统可通过转接环适用于82mm口径以下的镜头（耐司即将推出150方形滤镜系统）。该系统是耐司在摄影滤镜领域多年研发的经验结晶，为高级摄影爱好者和专业摄影师提供更多更好的选择。
再次祝贺NiSi耐司本次成功参加2013年美国纽约摄影器材展，耐司会一如既往地保持创新，带给大家更多新产品！
