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耐司滤镜参加2013年美国纽约摄影器材展

信息来源:p-e.cn  时间:2013-12-09  浏览次数:322

  随着NiSi耐司品牌的发展,不仅在国内,在国际上的影响力也越来越大。2013年10月24~26日,NiSi耐司滤镜携新品参加PDN(美国纽约摄影器材展),受到广泛关注。本次NiSi耐司携带全系列滤镜产品、以及新推出的方形镜系列产品和创新钢化屏幕保护贴膜系列产品,得到了专业人士及摄影爱好者的一致认可。

  如今,使用单反的摄影爱好者越来越多,摄影爱好者对器材的选择越来越专业化。耐司一直致力于专业摄影滤镜的研发与生产, 此次参展的100方形滤镜系统便是耐司新发布的高端滤镜产品,从材质选择到功能设计都采用一流标准,以确保摄影师获得至臻画质。同时,NiSi耐司的产品获得了美国tiffen,LEE等知名品牌的认可和肯定。

  耐司新推出的NiSi F-STOPPER PRO100方形滤镜系统,该系统包括NiSi耐司全新开发的方形滤镜支架、NiSi ND1000方形滤镜(100mm*100mm)、NiSi方形渐变滤镜(100mm*150mm)及NiSi方形偏光镜(100mm*100mm),该系统可通过转接环适用于82mm口径以下的镜头(耐司即将推出150方形滤镜系统)。该系统是耐司在摄影滤镜领域多年研发的经验结晶,为高级摄影爱好者和专业摄影师提供更多更好的选择。

  再次祝贺NiSi耐司本次成功参加2013年美国纽约摄影器材展,耐司会一如既往地保持创新,带给大家更多新产品!

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